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氧化物分子束外延系统

SI-OMBE是专门为氧化物薄膜生长设计的MBE系统。利用差分抽气的原理使得加热源可以在氧气或者臭氧环境下稳定生长氧化物薄膜。适用于2英寸晶圆及2英寸以下小尺寸样品。可以装配各种源炉,实现不同材料分子束外延生长。

氧化物分子束外延系统

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SI-OMBE

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产品详情

产品参数:

       真空度: 优于2×10-10 Torr

       5轴样品操纵台,使用高温下耐臭氧的SiC样品加热器,温度范围100~900

       蒸发源法兰:CF35/CF63法兰(8个)

       配有9个膜厚仪,独立测量每个蒸发源的束流

       选配RHEEDLEEDAES等原位生长表征功能

       配有臭氧注入装置,与样品距离可调

       配有高纯臭氧供给系统

       兼容多坩埚式电子束蒸发源

       配有真空控制软件及生长控制软件

       配有快速进样腔室,真空度优于2×10-8 Torr,可扩展退火功能

       支持功能定制


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       真空度: 优于2×10-10 Torr

       5轴样品操纵台,使用高温下耐臭氧的SiC样品加热器,温度范围100~900

       蒸发源法兰:CF35/CF63法兰(8个)

       配有9个膜厚仪,独立测量每个蒸发源的束流

       选配RHEEDLEEDAES等原位生长表征功能

       配有臭氧注入装置,与样品距离可调

       配有高纯臭氧供给系统

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       配有真空控制软件及生长控制软件

       配有快速进样腔室,真空度优于2×10-8 Torr,可扩展退火功能

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SI-OMBE是专门为氧化物薄膜生长设计的MBE系统。利用差分抽气的原理使得加热源可以在氧气或者臭氧环境下稳定生长氧化物薄膜。适用于2英寸晶圆及2英寸以下小尺寸样品。可以装配各种源炉,实现不同材料分子束外延生长。
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